四合院：悟性逆天，七级工程师 第273章 嘴硬但没用

然而，随着越来越多的中立国家代表上台操作，并纷纷对芯片数控系统表示认可，怀疑派的心理防线开始悄然松动。

周围人用期待的目光看向他们，甚至有人小声嘀咕：“那些怀疑派是不是心虚了？连试都不敢试？”

在种种压力下，漂亮国的一位技术顾问终于硬着头皮站了起来。

他面无表情地走上台，语气中带着几分挑衅：“既然你们说得这么神奇，那我倒想亲自试试，看看到底有多厉害。”

技术人员为他简单讲解了操作步骤，这位顾问一边听一边皱眉，似乎还想挑出点毛病来。

然而，当他开始操作时，系统的流畅性和简便性让他再也找不到质疑的理由。

他输入参数后，机床迅速完成了路径规划并开始加工，全程没有一丝卡顿。

当零件加工完成后，这位顾问将零件拿到手里，仔细检查了好几遍。

原本准备好的质疑之词卡在喉咙里，不知该如何开口。

他的脸色变得有些难看，最终只是冷冷地说道：“这东西……确实有点意思。”

漂亮国的其他代表见状，心中也愈发矛盾。

最终，在周围人的催促下，他们陆续上台尝试操作。每个人在完成操作后，表情都变得复杂无比。他们原本满脑子的质疑，面对眼前的事实，已经无从发作。

会场中，还有一位欧洲代表原本态度强硬，但当他操作完后，却难掩心中的震撼。

他小声地对旁边的人说道：“这东西好像真的不简单……难道我们真的小看他们了？”

就在怀疑派代表们逐渐失声时，许志远再次站到了台上。他微微一笑，语气平和却铿锵有力：

“各位代表，刚刚的操作体验可能让大家对我们的芯片数控系统有了直观的认识。但为了进一步证明它的真实性和可靠性，我们还将对每一个加工零件的数据进行实时验证。我相信，数据不会说谎。”

他的话音一落，几名技术员推着一台高精密度的数据测量设备走上台。

这台设备可以对加工零件的尺寸、表面光洁度和曲面误差进行超高精度的测量。

技术员将加工完成的零件一一放入设备中，测量结果被实时投影到大屏幕上。

结果令人震撼：

零件的尺寸误差不超过2微米。

表面光洁度达到了N1级工业标准。

曲面加工的误差控制在亚微米级别。

这些数据与许志远此前展示的理论数据完全一致，没有一丝偏差。

会场内的支持派代表纷纷鼓掌，他们脸上满是兴奋和敬佩之色。汉斯代表站起来大声说道：“这就是工业革命！我们不得不承认，龙国的技术已经远远走在了前面。”

中立国家的代表们也开始窃窃私语：“这已经没有任何疑问了，龙国的芯片数控系统是真实的，他们真的做到了！”

而怀疑派代表们此刻却陷入了沉默。他们再也无法用“作弊”或“作秀”来反驳，眼前的事实无情地击溃了他们原本的傲慢与轻视。

漂亮国的一位高级官员紧握着手中的笔，脸色铁青。他低声对旁边的人说道：“这不可能……他们怎么可能做到这一点？”

一位毛子代表则垂下了头，喃喃自语：“我们……真的低估他们了。”

当会场内的掌声逐渐平息后，许志远站在台上，目光坚毅地扫视着每一位代表。他知道，此刻，龙国已经用事实赢得了这场技术对决。

支持派代表们已经迫不及待地与龙国的技术人员交流，商讨未来的合作可能性。

中立国家的代表们也开始重新评估自己的立场，悄悄讨论是否应该尽快与龙国建立更深层次的技术合作关系。

而怀疑派代表们虽然依旧面无表情，但他们的心中却早已翻江倒海。

漂亮国内部开始出现明显的分裂，有些代表私下承认龙国的技术确实令人信服，而另一些强硬派则依旧试图寻找新的理由来掩盖自己的失败。

看到会场内的气氛逐渐向龙国一方倾斜，许志远知道，是时候揭开芯片数控系统和光刻机背后真正的技术秘密了。

他走到讲台中央，调整了一下麦克风，目光扫视着台下的代表们，语气依旧平静，但每一句话都充满了力量。

“各位代表，今天的演示只是结果，但科学的核心在于过程。

在研发芯片数控系统和光刻机的路上，我们遇到了无数困难，但正是这些困难，磨砺了我们的创新能力。

接下来，我将向大家介绍一些我们团队在研发过程中克服的技术难题，以及我们独特的技术创新点。”

大屏幕再次亮起，展示了一系列复杂的技术图表和研发流程图。

许志远指向屏幕上的光刻机剖面图，开始详细讲解：“在光刻机的研发中，最关键的环节是光源系统、光学投影系统和掩膜版制造技术。没有这些，光刻机就是一台昂贵的摆设。”

“为了实现248纳米的深紫外波长，我们团队开发了一种新型激光器。

这种激光器的稳定性是研发的最大难点，因为哪怕光源波动只有千分之一，也会导致刻蚀失败。

经过数百次实验，我们最终通过一种新的气体混合技术，让激光器的稳定性提高了30%。”

“光学投影系统是光刻机的‘眼睛’，它需要将掩膜版上的电路图形以亚微米级精度投影到晶圆上。

这里，我们使用了多组高精度光学透镜，并通过自研的非球面加工技术，将透镜表面误差控制在0.05微米以内。”

“掩膜版的制造同样是一项极具挑战的技术。为了避免电路图形的边缘模糊，我们设计了一种纳米级镀膜工艺，确保掩膜版的线条宽度误差不超过9纳米。”

台下的支持派代表们听到这里，忍不住交头接耳。

一位汉斯代表惊叹道：“这已经是顶尖的技术水准了！我们自己的光刻机还在解决透镜稳定性的问题，他们居然已经做到这种程度？”

瑞士代表则低声说道：“他们的光刻机不仅可行，还有独特的技术创新点，这绝不是简单的模仿。”